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PURIFICATION SYSTEM최종 수정 일자 : 2020-12-01 10:38:23
PURIFICATION SYSTEM
MSC-3R 172
( 3K 172 , 3KT 172 )
CMS의 입자표면의 일정 기공에 가스중의 선택성분을 흡착하여 공급한다
PSA장치에 CMS를 적용하여 고순도의 가스를 얻을수 있다. 대기로 부터 질소를 분리한다
- 2. 활성탄
- N2 PSA발생장치의 필터용
- COMPRESSED AIR 의 MIST OIL을 제거한다
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